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多气路高温脉冲原子层共沉积设备
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多气路高温脉冲原子层共沉积设备
围观数：| 标的名称 | 多气路高温脉冲原子层共沉积设备 | ||
| 项目编号 | **** | 挂牌价格 | 面议 |
| 项目状态 | 招商 | 挂牌起始日期 | 2026-10-30 |
| 所在地区 | **省﹒**市﹒**市 | 挂牌期满日期 | 2027-08-10 |
| 所属行业 | 其他/其他 | ||
项目简介
（一）招商方：****
（二）招商标的情况：
1.科技成果简介：
该团队开展了一种多气路高温原子层共沉积系统的设计研究，其包括有抽气单元、管式炉、真空度显示单元、供气单元以及PID控制单元。通过PID控制单元可同时实现多气路共沉积，通过管式炉可实现<1200℃的高温脉冲。该抽气单元用于为该管式炉抽真空，该真空度显示单元用于显示该管式炉的真空度，该供气单元包括用于为该管式炉供气的气源支路与固液源支路，该固液源支路包括可加热前驱体源瓶和设置于其与该管式炉连接管路的电控阀门，该PID控制单元用于控制该电控阀门的开启与关断。该原子层沉积系统在具备气态源生长材料的条件下还具备液态源或固态源生长功能，有效地解决了现有的原子层沉积系统无法兼具三种源（气态源、液态源和固态源）同时生长材料的问题，大幅度地扩展了材料的生长范围。
本系统在扩展材料生长范围的同时，有效降低了成本，因此具有广阔的市场应用前景。由于原子层沉积技术的表面化学反应具有自限性，因此拥有优异的三维共形性、大面积成膜的均匀性和精确的膜厚控制等特点，广泛适用于不同环境下的薄膜沉积，在光伏、半导体、柔性电子等新型显示、MEMS、催化及光学器件等诸多高精尖领域均拥有良好的产业化前景，初步预估产值为300万元。
2.拟转化方式：技术许可、技术转让。
（三）招商价格：面议
（四）交易组织方式：
项目征集到一个意向**方后，转为正式挂牌项目交易。
投资者如有**意向，请联****交易中心办理登记手续。
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